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機(jī)械拋光基本方法
來(lái)源:[seo:selfurl]
發(fā)布時(shí)間:2019-11-11

在塑料模具加工中所說(shuō)的拋光與其他行業(yè)中所要求的表面拋光有很大的不同,嚴(yán)格來(lái)說(shuō),模具的拋光應(yīng)該稱為鏡面加工。它對(duì)拋光本身有很高的要求并且對(duì)表面平整度、光滑度以及幾何精度也有很高的標(biāo)準(zhǔn)。表面拋光一般只要求獲得光亮的表面。鏡面加工的標(biāo)準(zhǔn)分為四及:AO=Ra0.008μm, A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由于電解拋光、流體拋光等方法很難精控制0件的幾何精度,而化學(xué)拋光、chao聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表面質(zhì)量又達(dá)不到要求,所以精密模具的鏡面加工還是以機(jī)械拋光為主。


要想獲得高質(zhì)量的拋光校果,重要的是要具備有高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等拋光工具和輔-助品。而拋光程序的選擇取決于前期加工后的表面狀況,如機(jī)械加工、電火花加工,磨床加工等等。

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